La inspección de la rugosidad superficial, la altura de los escalones y el espesor de las películas delgadas en obleas semiconductoras, lentes ópticas de precisión y componentes recubiertos determina directamente el rendimiento de la producción. El escaneo con sonda de contacto tradicional raya fácilmente las muestras delicadas, mientras que los equipos de medición óptica convencionales no ofrecen una precisión a nivel nanométrico. ¿Cómo lograr simultáneamente ensayos no destructivos, una precisión nanométrica ultraalta e inspección de producción en masa de alto rendimiento?
El nuevo interferómetro de luz blanca industrial de Wavelength OE cuenta con dos modos de medición interferométrica. Gracias a su detección sin contacto, cubre todo el flujo de trabajo, desde la I+D en laboratorio hasta el control de calidad en la producción en línea.
Modos de interferometría de doble núcleo para todo tipo de topografía de superficie.
A diferencia de los dispositivos de medición monomodo, este sistema integra algoritmos VSI (interferometría de escaneo vertical) y PSI (interferometría de desplazamiento de fase), satisfaciendo dos requisitos de medición fundamentales con una sola máquina.
| Elemento de comparación | VSI / CSI | PSI |
|---|---|---|
| Principales superficies de aplicación | Superficies rugosas, escalones, topografías discontinuas y complejas. | Superficies ultrasuaves, continuas y con acabado de espejo. |
| Rango de medición de altura vertical | Amplio rango; capaz de medir ranuras profundas y escalones altos. | Rango estrecho; no apto para escalones grandes aislados. |
| Resolución vertical | Nivel nanométrico; se puede alcanzar un nivel subnanométrico con algoritmos optimizados. | Máxima resolución; repetibilidad hasta el nivel subnanométrico, incluso subangstrom. |
| Tolerancia a la rugosidad superficial | Alto | Bajo |
| Ambigüedad de fase | Casi ninguna; salida de valor de altura absoluta disponible | Sujeto a un error de envoltura de fase de 2π |
| Velocidad de medición | Requiere escaneo axial, relativamente lento. | Generalmente más rápido |
| Resistencia a la vibración | Susceptible a vibraciones durante el escaneo | Desplazamiento de fase multifotograma, más sensible a las vibraciones. |
| Aplicaciones típicas | Rugosidad, altura de escalón, microestructuras, superficies mecanizadas | Pruebas de rugosidad, forma y planitud de la superficie ultrasuave |
PSI (Interferometría de Desplazamiento de Fase): Especializada en estructuras de altura minúscula a nanoescala y películas ultrafinas, que ofrece la máxima resolución microscópica.
Espejo de avión
Espejo curvo (espejo convexo)
Muestra de patrón fotolitográfico
Interferometría de escaneo vertical (VSI): optimizada para piezas con grandes variaciones de altura y escalones pronunciados; rango de medición completo disponible sin escaneo segmentado.
Matriz circular de microprotuberancias en obleas empaquetadas avanzadas
Matriz de microprotuberancias elípticas en obleas empaquetadas avanzadas
matriz de microlentes
En combinación con una fuente de luz blanca de coherencia corta de 450–700 nm, suprime eficazmente la luz parásita proveniente de múltiples reflexiones y ofrece un excelente rendimiento antiinterferencias. Gracias a sus recubrimientos multicapa, este componente óptico de baja reflectividad genera señales de interferencia estables y nítidas, lo que proporciona resultados de medición auténticos y fiables.
2. Especificaciones de grado nanométrico líderes en la industria, datos trazables y estables a largo plazo.
-El sistema adopta una fuente de luz LED blanca con una longitud de onda central de 550 nm, equipada con parámetros de rendimiento de primer nivel que cumplen con los estándares premium globales.
-Resolución vertical: <1 nm, error de medición repetida: <10 nm, precisión nanométrica real
-Rango máximo de medición vertical: 500 μm, no se requiere reposicionamiento repetido para microestructuras de alto y bajo relieve.
-Velocidad de escaneo: 100 μm/s, escaneo completo en 10 segundos, equilibrando precisión y rendimiento de inspección.
-Cumple con los estándares de trazabilidad del NIST y su algoritmo de autocalibración integrado garantiza datos de lotes trazables y consistentes, cumpliendo con los estrictos estándares de control de calidad para las industrias de semiconductores y óptica.
| Artículo | Parámetro |
| Capacidad de medición | Topografía superficial 3D, rugosidad superficial, altura de escalón y espesor de película de materiales reflectantes y componentes ópticos. |
| Modo de adquisición de datos | Interferometría de barrido vertical (VSI) + Interferometría de desplazamiento de fase (PSI) |
| Sistema de calibración | Estándar con trazabilidad NIST + algoritmo de calibración automática |
| Rango de medición vertical | 500 μm |
| Campo de visión | Objetivo 20×: 0,87 × 0,65 mm |
| Rendimiento de la cámara | Resolución máxima: 2048×2448; Velocidad de fotogramas: 74 fps; Profundidad de bits: 12 bits |
| Velocidad de escaneo | 100 μm/s (Modo de precisión) |
| Opciones de lentes objetivo | Objetivos con aumento configurable de 20x / 50x |
| Diseño de instalación | Plataforma de aislamiento de vibraciones activa integrada, disponible para montaje horizontal y vertical. |
| Dimensiones generales (largo × ancho × alto) | 120 × 80 × 65 cm |
| Peso neto | ≤58 kg |
3. Diseño de armario industrial integrado, compatible con líneas de laboratorio y producción.
Optimizado tanto para talleres de producción en masa como para laboratorios de investigación científica, con compatibilidad de instalación flexible.
Plataforma de aislamiento de vibraciones activa integrada: Medición estable incluso con vibraciones de fábrica, sin necesidad de una mesa de aislamiento de vibraciones adicional.
Estructura de montaje doble: instalación horizontal o vertical, fácil integración con líneas de producción automatizadas y estaciones de trabajo de laboratorio.
Cuerpo compacto todo en uno: Ocupa poco espacio con dimensiones de 120 × 80 × 65 cm, peso ≤ 58 kg, fácil despliegue in situ.
El sistema completo integra la fuente de luz, la unidad principal del interferómetro y el módulo de control. Es de fácil instalación (plug-and-play) tras desembalarlo, sin necesidad de ajustes complejos en la trayectoria óptica.
Amplia cobertura de aplicaciones para la fabricación de alta precisión.
Industria de semiconductores: Inspección de topografía 3D y altura de escalones de obleas de silicio y chips micro-nano.
Óptica de precisión: Pruebas de rugosidad y espesor de película para lentes ópticas, objetivos y elementos ópticos recubiertos.
Nuevos recubrimientos funcionales: Análisis del perfil superficial y del espesor de recubrimientos reflectantes y películas delgadas funcionales.
Laboratorios de investigación científica: Caracterización de micro y nanoestructuras y pruebas de morfología de componentes de precisión.
Con años de experiencia profesional en I+D óptica, Wavelength OE desarrolla de forma independiente todos los sistemas ópticos y algoritmos de medición esenciales para interferómetros de luz blanca. Ofrecemos un control técnico integral, desde las fuentes de luz y las lentes objetivo hasta los sistemas de calibración. Cada unidad se somete a una calibración de precisión en múltiples rondas antes de su entrega. Brindamos soporte técnico posventa completo y personalizamos soluciones de medición exclusivas según el tamaño de la pieza del cliente y los requisitos de la línea de producción automatizada.
Fecha de publicación: 15 de julio de 2026