Objetivo metalúrgico NIR Plan Apo 50X/0.67 con corrección al infinito para imágenes a través de silicio y monitorización de procesos con láser de fibra.

El objetivo de microscopio apocromático planar NIR 50X/0.67, de alta gama y con corrección al infinito, está optimizado específicamente para aplicaciones en el infrarrojo cercano (NIR). Con una apertura numérica (NA) de 0,67 y una distancia de trabajo (WD) de 10 mm, ofrece una resolución excepcional (0,5 µm) y una excelente transmisión NIR en el rango visible de 380 a 700 nm, así como en la longitud de onda crítica de 1064 nm. Esto lo hace ideal para la inspección de la parte posterior de obleas de silicio, la metrología de interconexiones verticales a través del silicio (TSV) y la monitorización en tiempo real del procesamiento con láser de fibra.

Especificaciones clave:

• Aumento: 50X
• Apertura numérica (AN): 0,67
• Distancia de trabajo (DT): 10 mm
• Distancia focal: 4 mm
• Resolución: 0,5 µm
• Profundidad de campo (±DF): 0,75 µm
• Campo de visión máximo: 0,5 mm
• Peso: 430 g
• Diseño óptico: Corrección al infinito, plano apocromático (APO)
• Longitud de onda de trabajo: 380–700 nm y 1064 nm
• Medio de inmersión: Aire